1月19日，全球光刻機(jī)巨頭ASML發(fā)布[敏感詞]財(cái)報(bào)，2021年第四季度和2021年全年業(yè)績創(chuàng)歷史新高，超預(yù)期。 ASML還宣布，2022年[敏感詞]季度，第二代高數(shù)值孔徑（High-NA）光刻機(jī)TWINSCAN EXE：5200位居榜首。 這意味著這臺光刻機(jī)可以用來制造2nm芯片。 將于2024年交付。   
  2021年?duì)I收186億歐元，毛利率高達(dá)52.7%
 
  根據(jù)財(cái)報(bào)顯示，ASML 2021年第4季營收為49.86億歐元，凈利潤為17.74億歐元，毛利率達(dá)54.2%。新增訂單金額為70.50億歐元。2021年全年?duì)I收達(dá)186.11億歐元（同比增長35%），凈利潤為58.83億歐元，毛利率為52.7%。2021年全年新增訂單為262.40億歐元，其中一半來自于EUV光刻機(jī)。  
 

ASML總裁兼CEO溫彼得 (Peter Wennink) 表示，ASML第4季的營收達(dá)到50億歐元，符合財(cái)測；由于強(qiáng)勁的升級與服務(wù)收入，2021年的毛利率達(dá)到54.2%，優(yōu)于財(cái)測。

  2021年出貨了42臺EUV光刻系統(tǒng)  
  2021年ASML來自光刻系統(tǒng)方面的營收為136.53億歐元，總共銷售了287臺光刻系統(tǒng)。具體的銷量方面，EUV光刻系統(tǒng)42臺，貢獻(xiàn)了約63億歐元，銷售額占比高達(dá)46%；ArFi光刻系統(tǒng)81臺，銷售額占比36%；ArF光刻系統(tǒng)131臺，銷售額占比10%；i-Line光刻系統(tǒng)33臺，銷售額占比1%。  
   
  從銷售的光刻系統(tǒng)的最終用途來看，70%被用于邏輯半導(dǎo)體制程，30%被用于存儲芯片的制造。  
  從光刻系統(tǒng)最終出貨地來看，中國臺灣地區(qū)貢獻(xiàn)的銷售額占比高達(dá)44%，韓國占比35%，中國大陸占比16%。  
 

溫彼得表示：“2021年ASML的EUV出貨量增長并不高，這主要是由于我們在第三季度宣布的物流中心和供應(yīng)鏈問題影響的結(jié)果。但這完全由EUV光刻機(jī)的安裝及升級等基礎(chǔ)收入補(bǔ)償了，特別是我們能夠向客戶提供的生產(chǎn)力升級。我們的客戶急需額外的容量，需求量很大。這部分的銷售額為15億歐元。在我們稱之為生產(chǎn)力提升包的推動下，安裝了大量選項(xiàng)，為客戶提供了額外的晶圓容量?！?

DUV 業(yè)務(wù)方面，ASML表示，XT:860N 已于 2021 年底交付給其[敏感詞]個客戶。這種 KrF 系統(tǒng)提供了更好的性能和更低的成本。2022年，隨著 NXT:870 的引入，ASML將把 KrF 添加到 NXT 平臺中，使其能夠在生產(chǎn)率和擁有成本方面邁出重要的一步，并在 ArFi 和 ArFDry 中構(gòu)建這個平臺上的現(xiàn)有經(jīng)驗(yàn)。

應(yīng)用業(yè)務(wù)方面，[敏感詞] eScan1100 多束檢測系統(tǒng)計(jì)劃在未來幾周內(nèi)交付，該系統(tǒng)是專為大批量生產(chǎn)設(shè)計(jì)的。由于采用了 25 束（5x5），預(yù)計(jì) eScan1100 與單一電子束檢測工具相比，可增加 15 倍的吞吐量，用于目標(biāo)在線缺陷檢測應(yīng)用。

     

單價超3億美元，TWINSCAN EXE:5200已接獲[敏感詞]訂單

由于EUV光刻系統(tǒng)中使用的極紫外光波長（13nm）相比DUV 浸入式光刻系統(tǒng)（193 nm）有著顯著降低，多圖案 DUV 步驟可以用單次曝光 EUV 步驟代替?？梢詭椭酒圃焐汤^續(xù)向7nm及以下更先進(jìn)制程工藝推進(jìn)的同時，進(jìn)一步提升效率和降低曝光成本。

自2017年ASML的[敏感詞]臺量產(chǎn)的EUV光刻機(jī)正式推出以來，三星的7nm/5nm工藝，臺積電的第二代7nm工藝和5nm工藝的量產(chǎn)都是依賴于0.55 數(shù)值孔徑的EUV光刻機(jī)來進(jìn)行生產(chǎn)。

目前，臺積電、三星、英特爾等頭部的晶圓制造廠商也正在大力投資更先進(jìn)的3nm、2nm技術(shù)，以滿足高性能計(jì)算等先進(jìn)芯片需求。而3/2nm工藝的實(shí)現(xiàn)則需要依賴于ASML新一代的高數(shù)值孔徑 (High-NA) EUV光刻機(jī)EXE:5000系列。

 

ASML目前正在開發(fā)當(dāng)中的高數(shù)值孔徑 (high-NA) EUV光刻機(jī)是基于 0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的迭代產(chǎn)品，其具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米，而現(xiàn)有的0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的分辨率為 13 納米，使得芯片制造商能夠生產(chǎn)3/2nm及以下更先進(jìn)制程的芯片，并且圖形曝光的成本更低、生產(chǎn)效率更高。

但是，0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)造價相比[敏感詞]代的EUV光刻機(jī)也更高。據(jù) KeyBanc 稱，一臺0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的成本預(yù)計(jì)為3.186億美元，而目前正在出貨的EUV光刻系統(tǒng)則為1.534億美元。

值得注意的是，ASML總裁兼CEO溫彼得透露，在2021年第四季度，ASML獲得的價值為70.50億歐元的新增訂單當(dāng)中，0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)和0.55 NA EUV光刻系統(tǒng)的訂單金額就達(dá)到了26億歐元。

溫彼得表示，ASML在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的訂單。自2018年以來，ASML已經(jīng)收到四份TWINSCAN EXE:5000的訂單。據(jù)了解，EXE:5000主要面向的是3nm工藝。而第二代的0.55 NA EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5200將會被用于2nm工藝的生產(chǎn)。

溫彼得透露，在2022年初，ASML已收到了下一代的TWINSCAN EXE:5200的[敏感詞]份訂單，這標(biāo)志著ASML在引入 0.55 NA EUV光刻的道路上又邁出了一步。

根據(jù)ASML的路線圖，TWINSCAN EXE:5000將會在今年下半年出貨，每小時可生產(chǎn)185片晶圓。而TWINSCAN EXE:5000將會在2024年底出貨，每小時可廠商超過220片晶圓。

在2021年7月底的“英特爾加速創(chuàng)新：制程工藝和封裝技術(shù)線上發(fā)布會”上，英特爾已宣布將在2024年量產(chǎn)20A工藝（相當(dāng)于臺積電2nm工藝），并透露其將率先獲得業(yè)界[敏感詞]臺High-NA EUV光刻機(jī)。ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機(jī)的首份訂單正是來自于英特爾。

ASML總裁兼首席技術(shù)官M(fèi)artin van den表示，英特爾對ASML在High-NA EUV技術(shù)的遠(yuǎn)見和早期承諾證明了對摩爾定律的不懈追求。與目前的EUV系統(tǒng)相比，ASML的擴(kuò)展EUV路線圖以更低的成本、時間周期和架構(gòu)等方面提供了持續(xù)的改進(jìn)，這將推動芯片行業(yè)未來十年發(fā)展的動力所在。

對于英特爾來說，搶先獲得ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機(jī)，也正是英特爾篤定其制程工藝能夠超越臺積電、三星重回領(lǐng)先地位的關(guān)鍵。

不過，臺積電和三星此前應(yīng)該也在爭奪Hight NA EUV光刻機(jī)。去年10月初，三星在10月初初已宣布，將在2022年上半年量產(chǎn)3nm工藝，并計(jì)劃在2025年搶先臺積電量產(chǎn)2nm。為此，有消息顯示，三星也在緊急搶購一臺Hight NA EUV光刻機(jī)，并要求ASML直接拉到三星工廠內(nèi)進(jìn)行測試。另外，臺積電在此前的法說會上也對外，2025年臺積電2nm制程不論是密度或是效能，都將是最領(lǐng)先的技術(shù)。

柏林工廠火災(zāi)不會影響2022年出貨

今年1月3日，ASML位于德國柏林的一座工廠發(fā)生火災(zāi)，大火在當(dāng)晚被撲滅，沒有人員在火災(zāi)中受傷。

資料顯示，ASML德國柏林工廠是一座零部件工廠，主要生產(chǎn)晶圓臺、光罩吸盤和反射鏡模塊等DUV和EUV光刻機(jī)所需的零部件。

隨后，ASML在官網(wǎng)上表示，火災(zāi)后DUV光刻機(jī)零部件的生產(chǎn)部分中斷，但很快生產(chǎn)已經(jīng)恢復(fù)，預(yù)計(jì)他們將以一種不會影響DUV光刻機(jī)產(chǎn)量和收入計(jì)劃的方式進(jìn)行補(bǔ)救。另外，柏林工廠火災(zāi)還影響到了EUV光刻機(jī)一個零部件的生產(chǎn)區(qū)域，恢復(fù)計(jì)劃仍在進(jìn)行中，他們已決定采取相關(guān)的措施，將對EUV光刻機(jī)客戶、產(chǎn)出計(jì)劃及服務(wù)的潛在影響降到[敏感詞]。

在此次的財(cái)報(bào)會議上，溫彼得表示，柏林工廠火災(zāi)在幾個小時內(nèi)就已被撲滅，但仍然有重大損失。對于DUV光刻機(jī)，雖然有一些初始干擾，但其認(rèn)為不會對2022年的產(chǎn)量產(chǎn)生任何影響。另外，EUV光刻機(jī)所需的晶圓鉗的生產(chǎn)受到了影響，這是一個非常復(fù)雜但非常重要的模塊。但通過我們的努力，相信能夠應(yīng)對這種情況，我們認(rèn)為不會看到對我們的EUV光刻機(jī)的2022年的產(chǎn)量生產(chǎn)大的影響。

 

2022年一季度營收約為33-35億歐元

ASML也公布2022年[敏感詞]季財(cái)測，預(yù)估營收凈額約為33億到35億歐元之間，毛利率約49%。ASML預(yù)計(jì)一季度研發(fā)成本約為7.6億歐元，SG&a成本約為2.1億歐元。

ASML總裁兼CEO溫彼得表示：“[敏感詞]季度凈銷售額指導(dǎo)值較低的原因是大量快速發(fā)貨，使得約20億歐元的預(yù)計(jì)收入將從[敏感詞]季度轉(zhuǎn)移到隨后的季度。而去年四季度快速發(fā)貨推遲到今年一季度確認(rèn)的金額約為3億歐元。”

“客戶對于光刻系統(tǒng)的需求超過了我們的生產(chǎn)能力所能滿足的范圍。終端市場的強(qiáng)勁需求，給我們的客戶帶來了增加晶圓產(chǎn)量的壓力。為了支持我們的客戶，我們?yōu)樗麄兲峁┝烁呱a(chǎn)率升級解決方案，并縮短了我們工廠的生產(chǎn)周期以交付更多的光刻系統(tǒng)。減少交付周期時間的一種方法是，通過快速裝運(yùn)過程，跳過我們工廠的一些測試。最終測試和正式驗(yàn)收將在客戶現(xiàn)場進(jìn)行，通常驗(yàn)收程序需要幾周的時間（有時三到四周）。這雖然將導(dǎo)致這些發(fā)貨的收入延遲確認(rèn)，直到客戶正式接受，但這確實(shí)為我們的客戶提供了更早獲得增加晶圓輸出能力的機(jī)會?！睖乇说眠M(jìn)一步解釋到。

2022年?duì)I收預(yù)計(jì)增長20%

對于2022全年的業(yè)績預(yù)期，ASML也比較樂觀的認(rèn)為會保持同比約20%左右的營收增長。

“2022年將是一個好年頭。與2021相比，我們預(yù)計(jì)增長率約為20%。這是一個很好的數(shù)字，因?yàn)槟惚仨毧紤]到我們在2022年年底前也會有一些‘快速發(fā)貨’，導(dǎo)致部分收入轉(zhuǎn)移到2023年確認(rèn)。我們目前認(rèn)為2020年年底大約有六個EUV系統(tǒng)將被快速裝運(yùn)發(fā)貨。如果將延遲確認(rèn)的收入加上，那么2022年的營收將同比增長25%左右?！睖乇说谜f到。

2022年將出貨55臺EUV光刻機(jī)

對于2022年的EUV光刻機(jī)的出貨量，ASML預(yù)計(jì)將會達(dá)到55臺。正如起前面提到到的，其中約有6臺的收入將會推遲到2023年確認(rèn)。另外，預(yù)計(jì)2023年EUV光刻機(jī)的出貨量將增長到60臺。

在DUV光刻機(jī)業(yè)務(wù)方面，ASML認(rèn)為，DUV光刻機(jī)的出貨2022年將會尤其強(qiáng)勁。因?yàn)樗婕傲怂行袠I(yè)，包括存儲和邏輯芯片制造。特別是芯片的持續(xù)短缺導(dǎo)致了對DUV光刻機(jī)的強(qiáng)烈需求。

溫彼得預(yù)測，“與2021年相比，2022年我們的DUV光刻機(jī)業(yè)務(wù)可能會有大約20%的增長?！?

此外，關(guān)于安裝式選項(xiàng)，Peter Wen 還表示，預(yù)計(jì) 2021 年增長非常強(qiáng)勁，客戶對安裝式選項(xiàng)的需求顯著增加，以增加晶圓產(chǎn)量。 ASML 預(yù)計(jì)這種情況將在 2022 年繼續(xù)增長約10％。 

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