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半導(dǎo)體行業(yè)綜研
中國大陸半導(dǎo)體前道制造設(shè)備數(shù)據(jù)月報(bào)（2022-122）

中國大陸半導(dǎo)體前道制造設(shè)備數(shù)據(jù)月報(bào)（2022-122）

半導(dǎo)體行業(yè)綜研|Semiconductor industry|

2023-02-24 09:43:36 720

數(shù)據(jù)概覽：

根據(jù)中國大陸海關(guān)說明，半導(dǎo)體前道制造設(shè)備可分為以下類別，分別對應(yīng)前道制造中的熱處理、CVD、PVD、其他沉積、光刻、干法刻蝕、其他刻蝕與離子注入等流程。

以下為數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)結(jié)果圖表：

最近3月，中國大陸半導(dǎo)體前道制造設(shè)備進(jìn)口金額為3919.5百萬美元，較去年同期下降28.8%。除了其他沉積設(shè)備進(jìn)口金額增加以外，其余設(shè)備進(jìn)口金額同樣均有不同比例的減少。但是，由于其他沉積設(shè)備進(jìn)口金額占比僅有1.7%，其意義不明顯。所以，中國大陸半導(dǎo)體前道制造設(shè)備進(jìn)口總體呈下降趨勢。

熱處理設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

2022年自10月起，熱處理設(shè)備進(jìn)口金額明顯減少，10~12月的總進(jìn)口金額為337.8百萬美元，同下降22.9%，環(huán)比下降24.8%。如下圖所示，來自日本的進(jìn)口占比長期過半，2022年占比近六成；相比于2022年上半年，下半年來自美國的進(jìn)口金額大幅下降，環(huán)比下降69.4%。

CVD設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

盡管最近3月CVD設(shè)備進(jìn)口金額同比下降22.3%，但這很大程度上是因?yàn)橛?021年11月異常高的數(shù)值，相比于熱處理設(shè)備，CVD設(shè)備的進(jìn)口金額較為平穩(wěn)。按貿(mào)易地區(qū)看，2022年，來自馬來西亞的進(jìn)口金額大幅增加，同比增長超五倍。

PVD設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

最近3月，PVD設(shè)備的進(jìn)口金額為205.9百萬美元，環(huán)比下降43.8%。如下圖，雖然在2022年來自新加坡的進(jìn)口金額所占比重最大，但在10~12月，來自新加坡的進(jìn)口金額明顯下降，在10月無進(jìn)口，同比下降82.3%，環(huán)比下降89.3%。

其他沉積設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

其他沉積設(shè)備進(jìn)口金額在各設(shè)備中占比最小。2022年，其他沉積設(shè)備的進(jìn)口金額波動較大。來自各貿(mào)易地區(qū)的進(jìn)口金額同樣具有高波動性，以美國為例，在1~9月，來自美國的進(jìn)口金額占比為49.5%，接近一半；到了10~12月，這個(gè)數(shù)字卻僅有29.7%。

步進(jìn)光刻設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

在2022年，步進(jìn)光刻設(shè)備的進(jìn)口金額比較穩(wěn)定，但12月的進(jìn)口金額明顯下降。如下圖所示，荷蘭與日本兩國幾乎壟斷了步進(jìn)光刻設(shè)備在中國大陸的進(jìn)口，2022年來自其他貿(mào)易地區(qū)的進(jìn)口金額占比僅1%；其中，來自荷蘭的進(jìn)口金額遠(yuǎn)大于日本，2022年來自荷蘭的進(jìn)口金額占比達(dá)71.3%。

其他光刻設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

相比于步進(jìn)光刻設(shè)備，其他光刻設(shè)備的進(jìn)口金額在2022年則波動較大。以貿(mào)易地區(qū)來看，荷蘭與日本同樣占據(jù)了大部分進(jìn)口，但其他貿(mào)易地區(qū)的占比相較步進(jìn)光刻設(shè)備稍大一些，最近12月占比4.2%。

干法刻蝕設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

自2022年9月起，干法刻蝕設(shè)備進(jìn)口金額明顯減少。10~12月，總進(jìn)口金額為719.3百萬美元，同比減少26.1%，環(huán)比減少34.1%。如下圖，在2022年，來自美國的進(jìn)口金額占比顯著減少，來自馬來西亞的則顯著增加。2022年，來自美國與馬來西亞的進(jìn)口金額占比分別為17.8%與19.3%，去年的這組數(shù)字為31.7%與7.8%。

其他刻蝕設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

其他刻蝕設(shè)備的進(jìn)口金額在2022年整體呈下降趨勢，最近3月，進(jìn)口金額為148.7百萬美元，同比減少45.6%。2022年，來自日本的進(jìn)口金額占比近六成；來自韓國的年進(jìn)口金額則大幅減少，同比減少63.3%。

離子注入設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

2022年下半年，離子注入設(shè)備進(jìn)口金額走勢與去年同期十分相似，較為穩(wěn)定，最近3月進(jìn)口金額同期下降8.6%。美國是離子注入設(shè)備的主要進(jìn)口來源，2022年，來自美國的進(jìn)口金額占比達(dá)67.5%。但是在12月，來自美國的進(jìn)口金額大幅減少，來自日本的則大幅增加。

其他設(shè)備數(shù)據(jù)明細(xì)：

2022年，其他設(shè)備的進(jìn)口金額走勢較為穩(wěn)定，年進(jìn)口金額為2243.6百萬美元，同比減少13.2%。如下圖所示，來自日本的進(jìn)口金額占比長期約50%；來自奧地利的進(jìn)口金額在2022年大幅增加，同比增加50.7%。

免責(zé)聲明：本文采摘自“半導(dǎo)體綜研”，本文僅代表作者個(gè)人觀點(diǎn)，不代表薩科微及行業(yè)觀點(diǎn)，只為轉(zhuǎn)載與分享，支持保護(hù)知識產(chǎn)權(quán)，轉(zhuǎn)載請注明原出處及作者，如有侵權(quán)請聯(lián)系我們刪除。

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